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中芯国际概况N/1节点生产计划比14 nm具有更多的成本优势

来源:内容均来自网络 发布时间:2020-03-24 16:20:31

去年,中芯国际表示,将在第四季度开放基于14nmfinfet工艺的大规模生产芯片。与此同时,该公司还致力于开发下一代主要节点(n≤1),声称拥有与7nm工艺相当的一些功能。与中芯国际自己的14nm工艺相比,n≤1可以降低57%的功耗和63%的逻辑面积,同时提高20%的性能。

数据图表(来自:中芯国际)

但事实上,中芯国际表示,n≥1并不等同于7nm技术。尽管新工艺可以使SoC更小、更节能,但n/1带来的性能改进仍然比不上7nm的竞争对手。

有鉴于此,中芯国际已将nv1定位为一种更具成本吸引力的芯片制造技术。该公司的一位发言人表示:n≥1的目标是低成本应用,在7nm范围内的优势约为10%。

此外,中芯国际的nv1工艺不使用极端紫外线光刻(Euvl),因此晶圆厂不需要从ASML购买其他昂贵的设备。

这并不意味着该公司没有考虑到EUV确实获得了EUV步进扫描系统,但有报道称,由于美国的压力,该系统尚未安装,导致中芯国际不得不等到n/2工艺才采用EUV。

如果一切顺利,中芯国际预计将于2020年第四季度开始N/1工艺的风险试产,并在2021年或2022年向大规模生产转移。